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VCD高真空箱的主要技術(shù)指標(biāo)

更新時間:2025-01-04   點擊次數(shù):90次

一、簡介VCD高真空箱主要應(yīng)用于航空、航天、軍事、電子、通訊、光電等科研及生產(chǎn)單位。集公司多年在真空設(shè)備成功經(jīng)驗,通過不斷潛心研究,突破傳統(tǒng)技術(shù)創(chuàng)造性解決了精密高真空設(shè)備的控制難點,能精準(zhǔn)控制133Pa以下的真空度。



二、主要技術(shù)指標(biāo):

規(guī)格型號: HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

內(nèi)箱尺寸(mm) 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm): 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范圍: 100000Pa1Pa

控制方式: 真空計顯示或PLC觸摸屏控制

結(jié)構(gòu): 一體式結(jié)構(gòu)(內(nèi)置真空泵)或分體式(外置真空泵)

內(nèi)箱材質(zhì): SUS304#不銹鋼

外箱材質(zhì): SECC鋼板高級烤漆處理

使用電源: AC 單相 三線 220V 50HZAC 三相 五線 380V 50HZ

選加功能: 加熱功能(RT+10℃~200℃)

真空泵: 另購(可用戶自備)


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粵公網(wǎng)安備 44190002002313號

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