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高真空箱HE-WD-400

更新時間:2024-07-20   點(diǎn)擊次數(shù):188次

在現(xiàn)代科技和工業(yè)領(lǐng)域中,高真空箱扮演著至關(guān)重要的角色。作為一種能夠創(chuàng)造出真空環(huán)境的設(shè)備,高真空箱在材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造、真空鍍膜、光學(xué)元件制造等多個領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。本文將詳細(xì)介紹高真空箱的工作原理、主要特點(diǎn)、應(yīng)用領(lǐng)域以及技術(shù)參數(shù)。

高真空烤箱1.jpg

一、高真空箱的工作原理

高真空箱的工作原理主要是通過一系列精密的真空泵和閥門系統(tǒng),將箱體內(nèi)的氣體不斷排出,從而達(dá)到所需的真空度。真空泵作為核心部件,負(fù)責(zé)將箱體內(nèi)的氣體抽出,常見的真空泵包括機(jī)械泵、分子泵、擴(kuò)散泵等。這些泵具有不同的抽氣速率和極限真空度,可以根據(jù)具體需求進(jìn)行選擇和組合。

在高真空箱的工作過程中,還需要對箱體進(jìn)行密封處理,以確保氣體不會從外部泄漏進(jìn)入。密封材料通常采用耐高溫、耐腐蝕的特種橡膠或金屬波紋管等。同時,為了保持箱體內(nèi)的真空度穩(wěn)定,還需要配備真空計和控制系統(tǒng),實(shí)時監(jiān)測和調(diào)節(jié)箱體內(nèi)的真空度。

二、高真空箱的主要特點(diǎn)

1. 高真空度:高真空箱能夠創(chuàng)造出真空環(huán)境,滿足各種高精度實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)的需要。
2. 穩(wěn)定性好:通過精密的控制系統(tǒng)和密封設(shè)計,高真空箱能夠保持穩(wěn)定的真空度,確保實(shí)驗(yàn)的準(zhǔn)確性和可靠性。
3. 操作簡便:高真空箱通常采用智能化控制系統(tǒng),具有操作簡便、易于維護(hù)的特點(diǎn)。
4. 安全性高:高真空箱在設(shè)計時充分考慮了安全因素,如過壓保護(hù)、過熱保護(hù)等,確保設(shè)備在運(yùn)行過程中的安全性。

三、高真空箱的應(yīng)用領(lǐng)域

1. 材料科學(xué):在材料科學(xué)領(lǐng)域,高真空箱被廣泛應(yīng)用于材料的制備、性能測試和改性等方面。例如,在納米材料的制備過程中,高真空箱能夠提供純凈的真空環(huán)境,減少材料表面的污染和氧化,從而制備出高質(zhì)量的納米材料。
2. 半導(dǎo)體制造:半導(dǎo)體制造是高真空箱的重要應(yīng)用領(lǐng)域之一。在半導(dǎo)體制造過程中,高真空箱能夠提供潔凈的真空環(huán)境,避免雜質(zhì)對半導(dǎo)體器件的影響,提高器件的性能和可靠性。
3. 真空鍍膜:真空鍍膜是一種在材料表面形成薄膜的技術(shù),廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、裝飾等領(lǐng)域。高真空箱能夠提供穩(wěn)定的真空環(huán)境,確保鍍膜過程的均勻性和一致性。
4. 光學(xué)元件制造:在光學(xué)元件制造過程中,高真空箱能夠提供高純凈度的真空環(huán)境,減少材料表面的污染和氧化,提高光學(xué)元件的透過率和清晰度。

四、高真空箱的技術(shù)參數(shù)

規(guī)格型號: HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

內(nèi)箱尺寸(mm) 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm): 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范圍: 100000Pa1Pa

控制方式: 真空計顯示或PLC觸摸屏控制

結(jié)構(gòu): 一體式結(jié)構(gòu)(內(nèi)置真空泵)或分體式(外置真空泵)

內(nèi)箱材質(zhì): SUS304#不銹鋼

外箱材質(zhì): SECC鋼板高級烤漆處理

使用電源: AC 單相 三線 220V 50HZAC 三相 五線 380V 50HZ

選加功能: 加熱功能(RT+10℃~200℃)

真空泵: 另購(可用戶自備)



總之,高真空箱作為現(xiàn)代科技和工業(yè)領(lǐng)域中的重要設(shè)備,其重要性不言而喻。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展,高真空箱將在未來發(fā)揮更加重要的作用,為人類社會的進(jìn)步和發(fā)展做出更大的貢獻(xiàn)。

 


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